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JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng)

參考價面議
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  • 公司名稱廣州文明機電有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地廣州市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/12/16 7:26:52
  • 訪問次數47
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廣州文明機電有限公司,簡稱GZ CVL(GZ Civil Mechatronic)成立于2006年,是業(yè)內的企業(yè),由留學歸國的北京大學博士后和華南師范大學MBA班學生共同創(chuàng)辦,擁有數十項,為廣東省科技型中小企業(yè),屬國家與專精特新培育企業(yè)。十幾年來,我們一直專注的領域包括科學儀器、汽車測試儀器、非標自動化設備、測試測量與控制、嵌入式開發(fā)工具和軟件工程?!癎Z CVL”始終堅持品牌化經營戰(zhàn)略,以服務為基礎,以質量求生存,以管理求發(fā)展,秉承一切以客戶為中心的服務理念。憑借多年來客戶的信任和支持,“GZ CVL”積累了豐富的營銷及安裝經驗,是一家擁有的管理,的技術、高水平的營銷和完善的售后服務為一體化的專業(yè)化測試及分析儀器設備公司。工業(yè)推動中國,創(chuàng)新感動世界,GZ CVL以“創(chuàng)、建百年企業(yè)”為奮斗目標,積極促進“中國制造”向“中國創(chuàng)造”的轉變。公司以“科技開創(chuàng)未來”為宗旨,以專業(yè)技術為核心,以優(yōu)質產品為先導,為我國測試及分析技術發(fā)展做貢獻,努力實現中國工業(yè)騰飛。 廣州文明依靠國內外測試和分析儀器設備領域多家國際化大公司以及中山大學、華南理工大學的雄厚技術實力,代理專業(yè)測試分析儀器設備,開展相關技術培訓,自主研發(fā)配套軟硬件,并提供的系統(tǒng)解決方案。公司具有持續(xù)的自主創(chuàng)新能力和科研成果轉讓或者產業(yè)化的實力,核心產品包含:新能源汽車測試臺架,空燃比分析儀,尾氣分析儀,掃描電鏡,熱分析儀,光譜分析儀,質譜分析儀等。"GZ CVL" 和 "希為爾"為廣州文明機電有限公司所擁有的兩個注冊商標。本公司是日本HORIBA,日本Lineeye,美國Applus, 美國Innovate,美國midtronics,瑞典Kvaser,英國PICO,日本電子捷歐路(JEOL),德國林賽斯、韓國K LAB等公司的中國代理和經銷商。GZ Civil Mechatronic Co. Ltd.(), founded on 2006.It is a well-known enterprise in the industry, focus on test and analytical instruments R & D, manufacture and sales. Our company is committed to carry out the relevant technical training, independent research and development of automotive and industrial automation system, and provide the most effective system solutions. Our core products include: Automotive teaching training equipment, engine power test system, automobile oscilloscope, exhaust gas analyzer etc. 所獲榮譽:一、廣州市科技型中小企業(yè)技術創(chuàng)新基金二、“LM-2空燃比測試儀”榮獲“全國20佳維修工具”獎三、汽車示波器 3423-kit榮獲“全國20佳維修工具”獎四、“立富L總線分析儀”榮獲“全國20佳維修工具”特別獎五、廣東省“優(yōu)秀信用企業(yè)”六、阿里巴巴誠信通會員七、慧聰網買賣通會員八、具有外貿進出口權九、是增值稅一般納稅人十、自有商標品牌十一、廣東省科技型中小企業(yè)
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術實現了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統(tǒng)?
JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng) 產品信息

JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。

的技術實現了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統(tǒng)

利用步進重復式曝光的優(yōu)點,結合曝光劑量調整功能及重疊曝光等功能,能支持下一代掩模版/中間掩模版(mask/reticle)圖形制作所需要的多種補償。

拼接精度≦±3.5 nm
套刻精度≦±5 nm
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