JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統,兼具高水平的產出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發及生產。
此外,由于具有100MHz的掃描速度,場尺寸在1000µm×1000µm時的套刻精度達到±11nm、場拼接精度為±10nm、寫場內位置精度達±9nm,是兼具高水準產出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統。
由于采用的位置偏轉DAC為20位,掃描DAC為14位,能獲得0.25nm的掃描步距,分辨率更高,描畫數據增長1nm,可以更忠實地再現描畫數據。
達到100MHz的高速化掃描速度,保證了大電流描畫時的掃描步距很短,因而能提高對精度要求的圖形描畫的產出量。
由激光束控制(LBC)的0.15nm(λ/4096)的最小定位單位及高分辨率,達到了高水準的位置精度。
本公司獨自的自動校正功能(自動補償功能),實現了可信賴的長時間穩定地描畫。自動補償可以根據時間(任意的)、場和圖形進行分別設定,非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫。
該系統能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版,適合于納米壓印、光子器件、通信設備等各種領域的研發及生產。采用材料卡匣傳送系統(選配),最多可裝載10個卡匣。
利用微間距控制程序(場尺寸微調程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。
電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
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描畫方式 | 圓形束, 矢量掃描, 步進重復式 |
加速電壓 | 100kV |
樣品尺寸 | 樣品尺寸 (可以安裝): 300mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小樣品。 |
場尺寸 | 1000µm×1000µm |
樣品臺移動范圍 | 260mmX240mm |
樣品臺控制單元 | 0.15nm(λ/4096) |
套刻精度 | ≦±11nm |
場拼接精度 | ≦±10nm (場尺寸為1000µm×1000µm) |
寫場內位置精度 | ≦±9nm(場尺寸為1000µm×1000µm) |
定位DAC | 20位 |
掃描速度 | 100MHz |