CMSD2000機(jī)械剝離法制備黑磷烯設(shè)備
【簡單介紹】
【詳細(xì)說明】
機(jī)械剝離法制備黑磷烯設(shè)備,黑磷烯研磨分散機(jī),黑磷烯高剪切研磨分散機(jī),二維黑磷研磨分散機(jī),黑磷烯納米分散液分散機(jī),黑磷烯納米分散液混合機(jī),黑二維材料黑磷研磨分散機(jī)
黑磷是黑色有金屬光澤的晶體,是用白磷在很高壓強(qiáng)和較高溫度下轉(zhuǎn)化而形成的。 黑磷在磷的同素異形體中反應(yīng)活性很弱的,它在空氣中不會(huì)點(diǎn)燃。
機(jī)械剝離法
機(jī)械剝離法是通過對(duì)層狀材料施加機(jī)械力從而將其薄層材料分離出來的方法,該法較為廣泛地應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室制備薄層材料,例如制備石墨烯和二硫化鉬。機(jī)械剝離法所需實(shí)驗(yàn)條件較為簡單,但是這種方法耗時(shí)且產(chǎn)量低,制備出的晶體尺寸不易控制,無法可控地制備出長度合適的黑磷烯,難以用于工業(yè)生產(chǎn),只適用于實(shí)驗(yàn)室制備黑磷烯以滿足測試的需求。并且黑磷納米片在大氣環(huán)境下不能穩(wěn)定存在,需要在無水無氧的條件下制備,否則會(huì)立即反應(yīng)消失。
如陳仙輝教授課題和張遠(yuǎn)波教授課題組采用機(jī)械剝離法從塊狀黑磷單晶中成功剝離出黑磷薄片,并將其附著到具有一層二氧化硅的硅晶片基質(zhì)上,由此制備了出場效應(yīng)晶體管。
針對(duì)黑鱗未來市場的應(yīng)用前景,上海IKN/依肯公司結(jié)合德國核心技術(shù)研發(fā)出了新型黑磷烯制備機(jī)械——IKN研磨分散機(jī),該設(shè)備是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,擁有強(qiáng)大的剪切力。
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IKN黑磷烯納米分散液分散機(jī)結(jié)構(gòu):
IKN分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的3級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
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