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SGN環保型石墨烯防腐涂料均質機

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更新時間:2018-11-22 15:56:56瀏覽次數:1018次

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產品簡介

石墨烯分散劑集分散、解聚、潤濕為一體,能夠吸附在石墨烯表面并產生靜電斥力使之分散,避免沉降返粗。在調漿時加入可以使疏水材料均勻分散在水中,提升研磨的效率和質量。在漿料的研磨過程中加入能迅速降低漿料的粘度,增加分散性、流動性,分散后漿料粘度穩定,不分層,不會二次團聚反粗。SGN環保型石墨烯防腐涂料均質機

詳細介紹

產品名稱:SGN環保型石墨烯防腐涂料均質機,SGN石墨烯防腐涂料超高轉速均質機,石墨烯防腐涂料高剪切均質機,石墨烯防腐涂料納米均質機,石墨烯納米級均質機

(洽談:1-5-0-2-1-9-8-5-9-1-7)

石墨烯在涂料體系中的應用:

1. 石墨烯用于涂料中可制備純石墨烯涂料和石墨烯復合涂料,前者主要是指石墨烯在金屬表面發揮防腐蝕、導電等作用的功能涂料;后者主要是指石墨烯首先與聚合物樹脂復合,然后以復合材料制備功能涂料,石墨烯可顯著提升聚合物的性能,因此石墨烯復合涂料成為石墨烯重要研究領域。

2. 石墨烯與聚合物樹脂復合方法大致有三種:

①熔融共混。高溫下將聚合物與石墨烯熔融混合,可避免使用有機溶劑;

②溶液共混。選擇合適的溶劑先溶解聚合物,再與石墨烯分散液均勻混合,后除去溶劑;

③原味聚合。將石墨烯分散到聚合物單體中,發生單體-單體間、單體-石墨烯-單體間聚合,原料通常為改性石墨烯,以提高兩者相容性。前兩種方法是使聚合物進入石墨烯內部形成插層復合物,第三種方法使聚合物在石墨烯上生長,三者均能有效的使石墨烯剝離并均勻分散。

超高轉速研磨均質機的核心應用

1、納米物料,納米物料的研磨和分散,是被人們一直關注的熱點和難題,對于納米物料的研磨分散,GMSD2000研磨均質機不僅具有18000rpm的超高轉速,同時研磨+分散的兩級結構,也更適應納米物料的研磨分散,先解聚后分散。如:納米二氧化硅、納米氧化鋯、納米氧化硅等。

2、新能源新材料,目前鋰電池是新能源中熱門的領域,其中石墨烯的研發與生產是核心話題,當然碳納米管的應用也比較熱點。這些領域18000rpm的GMSD2000研磨均質機都能更好去滿足鋰電池漿料的實驗和生產。

3、醫藥混懸液,醫藥乳液的生產制備,轉速的提高有利于獲得更細的粒徑,制備出更均勻穩定的藥液體系。傳統14000rpm的研磨均質機可獲得DN90≤5μm,而18000rpm轉速下的粒徑自然會更細更均勻。

4、精細化工和食品行業,如硅油乳化、生物柴油乳化、蛋黃醬等多個領域都能有更突出的應用。

自石墨烯被認為有望成為繼硅之后的新一代革命性材料開始,國內外對石墨烯及其下游產品的研究不斷升溫,其優異的力學性能及化學惰性使其在防腐涂料、材料領域引起了廣泛關注。石墨烯作為關鍵材料在涂層中能起到物理隔絕作用,阻礙海水、腐蝕性離子等向金屬基材滲透,形成大面積保護層,與樹脂緊密結合在很大程度上提高涂層的機械性能,其特殊的物理結構與表面特性可以大大提升涂料的防腐性能。

 

石墨烯的分散在防腐涂料中的應用:

均勻分散的石墨烯在樹脂中分散效果良好,無團聚現象且石墨烯均勻無規則的排列在樹脂基體中,研究結果表明,上海思峻石墨烯濕法研磨均質機處理后的石墨烯可高效的分散在環氧樹脂、聚氨酯樹脂等涂料樹脂中,明顯提高樹脂基本體的防護性能。值得一提的是,石墨烯分散狀態及含量與涂料整體防護性能有重要關系。若石墨烯分散不均勻,石墨烯不僅起不到好的作用,還可能形成水汽通道,加速涂層的腐蝕失效。

(洽談:1-5-0-2-1-9-8-5-9-1-7)

 

     石墨烯的制備目前主要有機械法、沉淀法和氧化還原法等。

1.    機械法既使用較高的剪切外力剝離石墨片層,破壞層間π鍵,直接得到石墨烯,這種方法對石墨的剝離通常不*,得到的石墨片層較多,通常高于10層,性能不穩定。

2.    沉淀法是使用不同碳源在Ni等基板表面沉淀或在SiC表面外延生長石墨烯,制備的石墨烯結構完整缺陷少,性能表現優異。

3.    氧化還原法是先利用強氧化劑迫使石墨氧化膨脹,層間距加大π鍵斷裂,同時多種官能團留在在石墨片層表面,再通過加強還原劑將官能團去除,使氧化的石墨片層還原到石墨烯狀態,這一過程大多在溶劑中進行,不需要真空等苛刻的制備環境和設備條件,是一種得到廣泛應用的石墨烯生產手段。

 

 

上海SGN/思峻石墨烯濕法研磨均質機的分散原理:

石墨烯分散劑集分散、解聚、潤濕為一體,能夠吸附在石墨烯表面并產生靜電斥力使之分散,避免沉降返粗。在調漿時加入可以使疏水材料均勻分散在水中,提升研磨的效率和質量。在漿料的研磨過程中加入能迅速降低漿料的粘度,增加分散性、流動性,分散后漿料粘度穩定,不分層,不會二次團聚反粗。

 

(洽談:1-5-0-2-1-9-8-5-9-1-7)

上海SGN/思峻石墨烯濕法均質機特點:

SGN致力于研磨分散設備的研發與生產,做到技術的完善和改進。傳統GMSD2000系列研磨均質機的轉速一般為0-14000rpm,線速度:41m/s,可以適應10μm以下的物料粒徑的獲取。但是隨著行業的精細化,產品品質的提升,14000rpm在特定的領域無法完成粒徑的細化要求,如納米粒徑的獲得,一般難以實現。所以迫切需求對研磨均質機的剪切速率進行提升,通過SGN工程師的優化改進,提高傳動比,優化機械密封的精密度,降低軸的偏差等有效方法,使得GMSD2000系列研磨均質機的轉速提高到18000rpm,線速度50m/s,并且可以長時間運行,設備平穩,*。

參數表

型號

流量L/H

轉速rpm

線速度m/s

功率kw

入/出口連接DN

GMSD2000/4

300

18000

51

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

13500

51

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

2000

9260

51

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

5000

3664

51

37

DN80/DN65

GMSD2000/30

8000

1825

51

55

DN150/DN125

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關鍵詞:原料 分散劑
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