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當前位置：安徽吸收譜儀器設備有限公司>> HC-XAFS-T半自動熱催化原位池
型號HC-XAFS-T
熱催化原位池是一款為研究電極材料在熱催化實驗中的結構變化而設計。工作電極（WE）放置在透視窗口處，從而使X射線能夠穿透工作電極。
●此裝置主體為高強度鋼結構，可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓（配置小窗口可以實現更高壓力）；
●實現1℃精確控溫；
●此原位池可用于透射模式原位XAFS測試；
●靈活控制階梯式升溫，并可通入各種反應氣氛，實時監測升溫條件下物相變化；
●光窗直徑：13mm; 光學窗口選用Be窗；樣品片為粉末狀圓片；
●配循環冷卻裝置，循環水溫控制在25oC。
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