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一、設備用途 真空磁懸浮熔煉方法,是近些年來飛速發展的一種熔煉方法,主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬,在冶金和材料制備等許多重要領域得到了廣泛的應用,顯示出良好的應用前景
一、設備用途
真空磁懸浮熔煉方法,是近些年來飛速發展的一種熔煉方法,主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬,在冶金和材料制備等許多重要領域得到了廣泛的應用,顯示出良好的應用前景。
二、設備特點
1·真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無接觸冶煉,干凈無污染。
2·冶煉溫度高,設計溫度可達2100及以上,專門應用于高熔點難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮專用IGBT電源,配合自助研發的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好。
4·采用兩級分子泵控制系統真空度高,極限可達5.0*10-4pa。
三、主要技術參數
1·設備型號:KZGF-0.25
2、額定功率:65Kw
3、容量(以鈦計):0.25Kg
4、輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz
5、冷態極限真空度:6.67×10E-4Pa
6、控制方式:模擬屏+電動控制(可擴展plc+觸摸屏)
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