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武漢華工激光工程有限責任公司
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動態聚焦設備，是華工激光針對激光加工如標記、切割、雕花、漆層處理、材料表面微熱處理的一款高效率、高精度、超實惠的特色產品。 激光光源 CO2 最小字符高度 0.3mm 設備型號 LHC150V
針對激光加工如漆層處理、標記、切割、雕花、漆層處理、材料表面微熱處理的一款 高效率、高精度的大幅面特色產品。
01 高功率金屬射頻管CO2激光器，功率輸出穩定，加工效果更精細
02 動態聚焦大幅面技術，集打標、打孔、切割功能于一體，有效范圍大
03 密封防塵設計，設備維護簡便
04 適用于筆電外殼，以及皮革、布料、紙張、木頭等材料加工
| 項目 | 主要技術參數 | |
| 激光參數 | 設備型號 | LHC150V |
| 激光光源 | CO2 | |
| 激光波長 | 9.4μm/10.6 | |
| 激光功率 | ≥150W | |
| 光學特性 | 掃描速度 | ≤7000mm/s |
| 加工幅面 | ≤800mm × 800mm | |
| 標記標準線寬 | 0.1mm（視材料）@100mm ×100mm | |
| 最小字符高度 | 0.3mm | |
| 機械系統 | 吸附作平臺 | 800mm × 800mm |
| 手動升降臺 | 660mm | |
| 使用環境 | 冷卻方式 | 風冷 |
| 供電規格 | 5.5KW/AC220V/50Hz | |
| 供氣規格 | 0.6MP | |
| 溫度、濕度 | 15~30℃，5%≤RH≤80%，超出范圍使用時需安裝空調 | |
| 外形尺寸（長×款×高） | 2050mm ×1000mm ×1820mm | |
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