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小型鉬絲燒結爐 真空立式爐 酷斯特 設備用途 　　本系列真空爐為周期作業式，采用石墨管或石墨棒(為發熱元件，適用于金屬材料，無機非金屬材料，在真空或保護氣氛下進...

微型電弧爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金，記憶合金、高熵合金以及大塊非晶材料制備。適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設備采用桌面式結構，...

真空熱壓爐的主要用途包括生產高阻隔性材料、耐高溫材料、絕緣材料以及特種陶瓷等。?它廣泛應用于高精度氮化硅陶瓷軸承及氮化硅陶瓷基板的制造，適用于平板件或層疊件的燒...

酷斯特科技真空甩帶爐真空速凝爐在高真空或惰性氣體保護氣氛下,利用感應加熱或者電阻輻射加熱將坩堝內樣品加熱至熔融狀態后，通過氣壓噴射在高速旋轉的銅輪或者鉬輪表面上...

第四代真空電弧爐 非自耗紐扣爐設備用途 ：用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備

本產品為臥式前開門結構設計，結構新穎外形美觀。主要供大專院校、科研單位及生產企業在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土...

小型鉬絲燒結爐 真空立式爐 酷斯特 設備用途 　　本系列真空爐為周期作業式，采用石墨管或石墨棒(為發熱元件，適用于金屬材料，無機非金屬材料，在真空或保護氣氛下進...

微型電弧爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金，記憶合金、高熵合金以及大塊非晶材料制備。適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設備采用桌面式結構，...

晶體生長爐設備主要用于科研對晶體生長過程的探索，可用于制備氧化物單晶和金屬單晶晶體制備，如藍寶石、GGG，YAG，LaAlO3，Si和Ge等

2100度 大型碳管燒結爐 真空熱處理爐產品用途本電爐主要供大專院校、科研單位針對無機材料在真空（或保護氣氛）熱壓條件下進行燒結處理，以便獲得高致密度的產品(如...

真空熱壓爐的主要用途包括生產高阻隔性材料、耐高溫材料、絕緣材料以及特種陶瓷等。?它廣泛應用于高精度氮化硅陶瓷軸承及氮化硅陶瓷基板的制造，適用于平板件或層疊件的燒...

酷斯特科技真空甩帶爐真空速凝爐在高真空或惰性氣體保護氣氛下,利用感應加熱或者電阻輻射加熱將坩堝內樣品加熱至熔融狀態后，通過氣壓噴射在高速旋轉的銅輪或者鉬輪表面上...

第四代真空電弧爐 非自耗紐扣爐設備用途 ：用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備

本產品為臥式前開門結構設計，結構新穎外形美觀。主要供大專院校、科研單位及生產企業在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土...

小型鉬絲燒結爐 真空立式爐 酷斯特 設備用途 　　本系列真空爐為周期作業式，采用石墨管或石墨棒(為發熱元件，適用于金屬材料，無機非金屬材料，在真空或保護氣氛下進...

微型電弧爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金，記憶合金、高熵合金以及大塊非晶材料制備。適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設備采用桌面式結構，...

晶體生長爐設備主要用于科研對晶體生長過程的探索，可用于制備氧化物單晶和金屬單晶晶體制備，如藍寶石、GGG，YAG，LaAlO3，Si和Ge等

2100度 大型碳管燒結爐 真空熱處理爐產品用途本電爐主要供大專院校、科研單位針對無機材料在真空（或保護氣氛）熱壓條件下進行燒結處理，以便獲得高致密度的產品(如...

真空熱壓爐的主要用途包括生產高阻隔性材料、耐高溫材料、絕緣材料以及特種陶瓷等。?它廣泛應用于高精度氮化硅陶瓷軸承及氮化硅陶瓷基板的制造，適用于平板件或層疊件的燒...

酷斯特科技真空甩帶爐真空速凝爐在高真空或惰性氣體保護氣氛下,利用感應加熱或者電阻輻射加熱將坩堝內樣品加熱至熔融狀態后，通過氣壓噴射在高速旋轉的銅輪或者鉬輪表面上...